TIG7835L是一款常温原生液态、低表面张力、高流动导热的新型液态金属散热工质。区别于传统导热硅脂、相变片及需高温熔融的普通液态金属,依托**新材料合金化技术,实现常温高流动性、超高导热效率、零挥发、长效稳定的散热特性。产品符合RoHS环保标准,安全无毒、无泄漏风险,专为AI芯片、高端处理器、显卡、工业液冷等大功率高发热设备设计,是解决高密度集成芯片散热瓶颈的底层核心技术,可保障设备长期、**、稳定运行。

二、核心产品优势
超高导热性能,**低热阻:具备远超常规导热介质的导热率,搭配低表面张力特性,可完美贴合芯片裁切表面,填充微观缝隙,彻底消除接触热阻,快速导出设备集中热量,大幅降低核心温度。
常温液态形态,高流动适配性:无需加热熔融,常温下保持稳定液态高流动状态,适配各类精密、小型化、高密度芯片设备,兼容风冷、液冷全散热体系,施工便捷、适配场景极广。
物化性质稳定,长效耐用不衰减:采用特种合金化改性工艺,不易蒸发、不易泄漏、无干涸老化问题,长期运行不出现导热衰减、粉尘堆积、干裂失效等情况,适配设备常年连续高负荷工作场景。
无毒环保,合规安全:配方无有害成分,完全满足RoHS环保检测标准,安全无毒、无腐蚀性、无刺激性,适配民用、商用、工业全领域设备,使用安全无隐患。
底层技术适配未来算力升级:针对芯片集成度持续提升、算力功耗暴涨的行业趋势研发,解决传统散热材料无法承载大功率高热流密度的痛点,是下一代高端电子设备散热的核心刚需材料。
传统金属材料需加热至熔点才可转化为液态,应用场景受限、操作繁琐且高温易损伤精密元器件。TIG7835L通过新材料改性技术+精准合金化配比工艺,重构金属物理特性,将高熔点固态金属优化为常温稳定液态形态。在保留金属超高导热本质的同时,赋予材料高流动性、低表面张力、低挥发特性,以液态流动式导热替代传统固态贴合导热,实现全方位、无死角、**率热量传导,从底层升级散热逻辑。

高端算力芯片:AI人工智能芯片、图形处理GPU、服务器微处理器、工业控制芯片
消费电子设备:高性能笔记本电脑、台式机CPU、独显设备
智能影音终端:机顶盒、LED智能电视、LED大功率照明灯具
工业散热系统:大功率设备液冷散热模组、工业精密仪器温控系统
形态:常温原生液态,高流动性
核心性能:超高导热率、超低接触热阻
稳定性:不易挥发、不泄漏、不老化、导热无衰减
安全标准:无毒无害,符合RoHS环保认证
适配优势:适配高发热高密度芯片,兼容风冷/液冷散热方案
